电子级高纯己二醇：半导体清洗的关键材料

超纯规格：

• 纯度≥99.99%，金属离子含量：Na<5ppb, Fe<1ppb

• 颗粒控制：≤0.05μm颗粒数<100/mL

• 水分含量：≤50ppm（Karl Fischer法）

清洗性能：

污染物类型	去除率（25°C超声）	晶圆表面粗糙度变化
光刻胶残留	99.8%	+0.02nm
离子污染	99.95%	-

产线验证：
某12英寸晶圆厂采用己二醇替代NMP后：

• 清洗周期缩短20%

• 缺陷率从0.8%降至0.3%

• 废液处理成本降低35%